一、熱噴涂法。熱噴涂是為了改善基材的性能。它是利用一定的高溫?zé)嵩磳⒈粐娡坎牧先刍?，通過高速射流將其霧化成細(xì)小的液滴或高溫顆粒，噴涂到經(jīng)過預(yù)處理的基材表面，形成涂層技術(shù)。
1、火焰噴涂。利用可燃?xì)怏w燃燒產(chǎn)生的高溫使噴涂材料熔化，然后將壓縮空氣以較快的速度噴射到基材表面形成涂層。超音速火焰噴涂是應(yīng)用最廣泛的火焰噴涂技術(shù)
2、電弧噴涂。兩根連續(xù)送入的金屬絲之間的電弧燃燒使金屬熔化，熔融金屬被霧化并用壓縮空氣噴射，在工作表面形成涂層。特點(diǎn)：通用性強(qiáng)，效率高；制備的涂層質(zhì)量高，耐腐蝕性能好，與基體結(jié)合良好；制備的陶瓷涂層具有良好的可修復(fù)性。
3、等離子噴涂技術(shù)。該技術(shù)利用直流電產(chǎn)生等離子弧將噴涂材料加熱至熔融狀態(tài)，并高速噴涂在基材表面形成涂層。
特點(diǎn)：可噴涂材料種類多，適用范圍廣，生產(chǎn)效率高，可制備高質(zhì)量涂層，對基材影響小，基材幾乎不發(fā)生熱變形。
二、溶膠-凝膠法。易水解的金屬醇鹽或無機(jī)鹽在一定溶劑中與水反應(yīng)，經(jīng)水解縮聚形成溶膠，將溶膠涂覆在金屬基材表面，然后經(jīng)干燥、熱處理形成涂層。優(yōu)點(diǎn)：可在低溫下進(jìn)行，制備的涂層質(zhì)量高。缺點(diǎn)：工藝復(fù)雜，耗時長，薄膜容易開裂。
三、氣相沉積法。
1、化學(xué)氣相沉積。它是一種利用多元素氣體在受熱零件表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)以獲得所需涂層的工藝。優(yōu)點(diǎn)：制備陶瓷涂層時，可均勻涂覆在任何形狀復(fù)雜的零件表面，所得涂層純度高、致密度高，與基體結(jié)合性好。缺點(diǎn)：這種技術(shù)往往伴隨著有害氣體。如果處理不當(dāng)，將對健康和環(huán)境造成損害。
2、物理氣相沉積。是指在真空條件下，利用加熱或高能束轟擊，使鍍層材料氣化成原子、分子或離子，并通過低壓氣體或等離子的作用，在基體表面沉積鍍層的工藝過程。目前最常用的是磁控濺射Radio和離子鍍。
四、自蔓延高溫合成：是利用原料發(fā)生放熱化學(xué)反應(yīng)，反應(yīng)產(chǎn)物沉積在基材上形成涂層的技術(shù)。優(yōu)點(diǎn)：生產(chǎn)工藝簡單，設(shè)備使用方便；反應(yīng)時間快，生產(chǎn)周期短；能耗低；雜質(zhì)少，產(chǎn)品純度高。缺點(diǎn)：這種方法需要高純度的金屬粉末為原料，不適合大規(guī)模生產(chǎn)。
五、激光熔覆技術(shù)：利用激光束作為熱源，使涂覆在基材表面的涂層材料熔化并迅速固化，從而獲得所需的涂層。優(yōu)點(diǎn)：與傳統(tǒng)涂層技術(shù)相比，激光熔覆在制備陶瓷涂層時冷卻速度非?？?，是非平衡結(jié)晶，有利于獲得高強(qiáng)度的細(xì)晶甚至納米晶結(jié)構(gòu)。
缺點(diǎn)：激光熔覆由于熱應(yīng)力強(qiáng)，容易使鍍層開裂，而且激光參數(shù)對鍍層質(zhì)量的影響非常復(fù)雜，因此熔覆層的質(zhì)量難以控制。氧化鋁陶瓷粉是陶瓷原料之一。陶瓷涂層的應(yīng)用和制備方法各有優(yōu)缺點(diǎn)。氧化鋁陶瓷在工業(yè)上的應(yīng)用將越來越多元化，并將發(fā)揮重要作用。
